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J-GLOBAL ID：200903084409340932

パターン検査方法及びその装置並びに基板の処理方法

Inventor： 田中 麻紀 ,  広井 高志 ,  渡辺 正浩 ,  宍戸 千絵 ,  森岡 洋 ,  渡辺 健二 ,  宮井 裕史 ,  野副 真理
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000128954
Publication number (International publication number)：2001304842
Application date： Apr. 25, 2000
Publication date： Oct. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】被検査対象物および画像検出系起因に起因して生じる、比較画像間の明るさばらつきを虚報としない、最適な画像処理条件を設定する。【解決手段】画像検出系に起因した2次電子画像のノイズ特性を求め、この特性をもとに被検査対象に応じて最適な画像処理パラメタを決定する。また、このノイズ特性と被検査対象物の画像を用いて比較処理を行うことにより、被検査対象物のプロセスばらつきを評価する。

Claim (excerpt)：

被検査対象物上に形成された第1のパターンに荷電粒子線を照射走査して得られる第1の荷電粒子線画像と、前記被検査対象物上に形成された前記第1のパターンと本来同一形状になるように形成された第2のパターンに荷電粒子線を照射走査して得られる第2の荷電粒子線画像とを比較して、前記被検査対象物上に形成されたパターンの欠陥または欠陥候補を検出する方法であって、前記荷電粒子線画像生成の過程において生じる画像信号量のばらつきを予測し、該予測した画像信号量のばらつきに基づいて許容範囲を算出し、前記第1の荷電粒子線画像と前記第2の荷電粒子線画像の間の差異を求め、該求めた差異が前記算出された許容範囲に入っているか否かに応じて欠陥または欠陥候補を判定することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (6)：

G01B 15/00 ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/66

FI (6)：

G01B 15/00 B ,  G01B 15/04 ,  G01N 23/225 ,  H01J 37/22 502 H ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/66 J

F-Term (54)：

2F067AA45 ,  2F067AA51 ,  2F067BB02 ,  2F067BB04 ,  2F067BB27 ,  2F067EE03 ,  2F067FF01 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067NN02 ,  2F067PP12 ,  2F067QQ11 ,  2F067RR12 ,  2F067RR20 ,  2F067RR24 ,  2F067RR28 ,  2F067RR30 ,  2F067RR31 ,  2F067RR41 ,  2F067SS01 ,  2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001FA02 ,  2G001FA08 ,  2G001GA03 ,  2G001GA06 ,  2G001GA11 ,  2G001JA07 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA11 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106CA50 ,  4M106CA51 ,  4M106DB05 ,  4M106DH01 ,  4M106DH24 ,  4M106DH33 ,  4M106DJ07 ,  4M106DJ13 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  4M106DJ38 ,  5C033UU05 ,  5C033UU06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• パターン検査装置およびその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-238812   Applicant：株式会社日立製作所
• 欠陥検査方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-110383   Applicant：株式会社日立製作所
• パターンの欠陥検査方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-264275   Applicant：株式会社日立製作所
• パターン欠陥検査方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-200042   Applicant：株式会社日立製作所
• 欠陥検査装置およびその方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-206078   Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
• 歩留予測方法およびその装置並びに基板の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-233727   Applicant：株式会社日立製作所