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J-GLOBAL ID:200903073869537376
偏波変調可能な分布帰還型半導体レ-ザ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
加藤 一男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994051205
Publication number (International publication number):1995235718
Application date: Feb. 23, 1994
Publication date: Sep. 05, 1995
Summary:
【要約】【目的】外部からの制御によって出力光の偏光状態を変化させることができる偏波変調可能な半導体レーザ及びその使用法に関するものである。【構成】本発明の偏波変調可能な半導体レーザによれば、分布帰還型半導体レ-ザ構造を有し、半導体レ-ザ構造の共振器方向に、異なる特性を有する2つの分布帰還部11a,11bを具備する。分布帰還部11a,11bの夫々に位相シフト部10a,10bが設けられ、2つの分布帰還部11a,11bを形成する回折格子2a,2bの周期は次の様に設定される。2つの分布帰還部11a,11bにおいて、夫々TEモ-ド及びTMモ-ドが支配的となる為に、TEモ-ド及びTMモ-ドのゲインスペクトルのピ-クにTEモ-ド及びTMモ-ドのブラッグ波長が一致する。
Claim (excerpt):
分布帰還型半導体レ-ザ構造を有し、該半導体レ-ザ構造の共振器方向に、異なる特性を有する2つの分布帰還部(DFB)を具備し、該分布帰還部の夫々に位相シフト部が設けられ、該2つの分布帰還部を形成する回折格子の周期は、該2つの分布帰還部において夫々TEモ-ド及びTMモ-ドが支配的となる為にTEモ-ド及びTMモ-ドのゲインスペクトルのピ-クにTEモ-ド及びTMモ-ドのブラッグ波長が一致するように、設定されていることを特徴とする分布帰還型半導体レ-ザ。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特表平6-505363
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特開昭62-042593
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特開平2-159781
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半導体レーザアレイ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-007954
Applicant:三洋電機株式会社
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特開平2-117190
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光半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-341706
Applicant:キヤノン株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-350703
Applicant:アンリツ株式会社
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半導体レーザ、光源装置、光通信システム及び光通信方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-310592
Applicant:キヤノン株式会社
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