熱処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森純一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999098777
Publication number (International publication number)：2000294476
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Oct. 20, 2000
Summary：

【要約】【課題】塗布液の昇華物の溜まりを防止するとともに、メンテナンスを容易にし、かつ、温度分布を高精度化することができる熱処理装置の提供。【解決手段】第2の突出部41と弾性部材40とが係合し、反射板32(熱板31)とシャッター部材38との間の隙間が塞がられるようになっている。外気導入ダクト46から外気が導入された外気は開口43を介して熱処理装置20内に導入され、第2の整流板45の裏面に当たって、第1の整流板44の外周経由で第1の整流板44の表面から裏面を通り、第1の整流板44との隙間、排気カバー47、更には排気ダクト48を通って排気される。

Claim (excerpt)：

基板が表面に載置される熱板と、上昇時には前記熱板の周囲を囲繞するように昇降自在に配置されたシャッター部材と、前記シャッター部材の昇降時に前記熱板と前記シャッター部材との間の隙間を塞ぐシール構造とを具備することを特徴とする熱処理装置。

F-Term (2)：

5F046KA04 , 5F046KA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

熱処理方法及び熱処理装置並びに処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-273757 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-024903 Applicant：キヤノン株式会社, キヤノン販売株式会社
熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-079043 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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