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J-GLOBAL ID：200903073957767942

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法

Inventor： 武智 敏
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996049874
Publication number (International publication number)：1997244247
Application date： Mar. 07, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】化学増幅型レジストなどに使用されるレジスト材料に関し、アクリレート樹脂を骨格にもつレジストよりもさらにエッチング耐性が高くすることを目的とする。【解決手段】環状炭化水素および炭化水素のみからなる骨格構造と、側鎖に保護されたアルカリ可溶性基とを有する重合体又は共重合体を含む。

Claim (excerpt)：

環状炭化水素および炭化水素のみからなる骨格構造と、側鎖に保護されたアルカリ可溶性基とを有する重合体又は共重合体を含むことを特徴とするレジスト材料。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 568

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• α,β-不飽和ニトリルを有する脂環式多環族とメタクリレート誘導体との共重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-173129   Applicant：富士通株式会社
• レジスト組成物とレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-239871   Applicant：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-352621   Applicant：ジェイエスアール株式会社