Pat
J-GLOBAL ID:200903074087938890
オゾン処理方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
伊東 彰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002227950
Publication number (International publication number):2004034010
Application date: Jul. 03, 2002
Publication date: Feb. 05, 2004
Summary:
【課題】化学吸収における気泡槽の改良に関するもので、気泡槽の反応効率を改善し、オゾンの利用効率を高める。【解決手段】密閉容器内1の被処理水中に設置されたエジェクター3を用い、該エジェクター3における駆動流体を被処理水とし、吸引流体をオゾンガスとして該密閉容器1内でオゾン処理を行うと共に、該密閉容器1上部の空間部に溜まった排オゾンガスをエジェクター3吸引部よりエジェクター3内に吸引し、オゾンガスを循環使用する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
密閉容器内の被処理水中に設置されたエジェクターを用い、該エジェクターにおける駆動流体を被処理水とし、吸引流体をオゾンガスとして該密閉容器内でオゾン処理を行うと共に、該密閉容器上部の空間部に溜まった排オゾンガスをエジェクター吸引部よりエジェクター内に導入し、オゾンガスを循環使用することを特徴とするオゾン処理方法。
IPC (6):
C02F1/78
, B01F1/00
, B01F3/04
, B01F5/04
, C02F3/12
, C02F11/06
FI (6):
C02F1/78
, B01F1/00 A
, B01F3/04 F
, B01F5/04
, C02F3/12 S
, C02F11/06 A
F-Term (17):
4D028BE08
, 4D050AA04
, 4D050AA12
, 4D050AB03
, 4D050AB06
, 4D050AB07
, 4D050AB14
, 4D050BB02
, 4D050BD03
, 4D059AA05
, 4D059BC10
, 4D059BK13
, 4D059DA43
, 4G035AA02
, 4G035AB20
, 4G035AC23
, 4G035AC30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
エジェクタ型オゾン接触反応方法及び反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-069133
Applicant:クロリンエンジニアズ株式会社
-
高濃度オゾン水製造装置及びこの装置を用いた高濃度オゾン水の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-345174
Applicant:コフロック株式会社
-
水のオゾン処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-297705
Applicant:野村マイクロ・サイエンス株式会社
-
難分解性物質分解装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-247971
Applicant:株式会社荏原製作所
-
ベンチュリー管を用いた、水処理用酸化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-182705
Applicant:本田肇
Show all
Return to Previous Page