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J-GLOBAL ID:200903074092475378
光学式基板検査装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998074575
Publication number (International publication number):1999083753
Application date: Mar. 23, 1998
Publication date: Mar. 26, 1999
Summary:
【要約】【課題】 検査時間の増大を招くことなく、光学解像特性を向上させることができ、将来の1GビットDRAMの回路パターンの欠陥検査にも対応する。【解決手段】 検査対象基板に形成されたパターンの欠陥や基板上に付着した異物を検査する光学式基板検査装置において、基板に光を照射するための光束を作り出すレーザ光源401と、レーザ光源401からの1本の光束を複数本に分割して多光束を作り出すマルチビーム発生器101と、分割した多光束を基板上で走査するスキャナミラー105,106と、基板上に多光束がそれぞれ独立に焦点を結ぶように働き、かつ多光束照射による基板からの反射光を導く光学系と、光学系により導かれた基板からの多光束の間隔と一致した間隔でアパーチャを配置し、各々の光束を制限するマルチピンホール111と、マルチピンホール111からの各光束の光量の変化をそれぞれ検出する検出器群112とを備えた。
Claim (excerpt):
検査対象基板に光を照射し、該基板に形成されたパターンの欠陥や該基板上に付着した異物を検査する光学式基板検査装置において、前記基板に光を照射するための光束を作り出すレーザ光源と、このレーザ光源からの1本の光束を複数本に分割し多光束を作り出す光束分割手段と、前記分割した多光束を前記基板上で走査させる多光束走査手段と、前記基板上に多光束がそれぞれ独立に焦点を結ぶように働き、かつ多光束照射による前記基板からの反射又は透過光を導く光学手段と、この光学手段により導かれた多光束の光量の変化をそれぞれ検出する光検出手段とを具備してなることを特徴とする光学式基板検査装置。
IPC (6):
G01N 21/88
, G01B 11/30
, G01N 21/84
, G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
FI (7):
G01N 21/88 E
, G01B 11/30 C
, G01N 21/84 E
, G03F 1/08 S
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
, H01L 21/30 502 V
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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面状態検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-241395
Applicant:キヤノン株式会社
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特開昭50-147286
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特開昭60-157008
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光走査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-171705
Applicant:旭光学工業株式会社
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レーザ顕微鏡及びこのレーザ顕微鏡を用いたパターン検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-088116
Applicant:レーザーテック株式会社
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特開昭63-078011
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特開昭57-131039
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共焦点走査方式顕微鏡及びその走査方法並びに被測定物の厚さ測定装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-032301
Applicant:石川島播磨重工業株式会社, 石川島システムテクノロジー株式会社
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特開昭63-078011
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特開昭57-131039
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特開昭60-157008
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特開昭50-147286
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