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J-GLOBAL ID:200903074096998472
パターン形成用シートおよびパターン形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
早川 裕司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002094214
Publication number (International publication number):2003297722
Application date: Mar. 29, 2002
Publication date: Oct. 17, 2003
Summary:
【要約】【課題】 精度の高いパターン形成を容易に行うことができるパターン形成用シートおよびパターン形成方法を提供する。【解決手段】 エネルギー線硬化性のスタンプ層11を備えたパターン形成用シート1と鋳型Mとを圧着して、鋳型Mが有するパターンをパターン形成用シート1のスタンプ層11に転写し、その状態でエネルギー線の照射によりスタンプ層11を硬化させ、転写したパターンを固定する。そして、パターンが形成されたスタンプ層11にインク2を付着させ、それを基板3にスタンプする。
Claim (excerpt):
鋳型からパターンを取得し、インクを付着させて基板にスタンプするためのパターン形成用シートであって、エネルギー線硬化性を有する高分子材料を主成分とするスタンプ層を備えたことを特徴とするパターン形成用シート。
IPC (3):
H01L 21/027
, G03F 7/038 501
, G03F 7/20 521
FI (3):
G03F 7/038 501
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 D
F-Term (11):
2H025AA03
, 2H025AA13
, 2H025AA16
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC53
, 2H025BC92
, 2H025BC95
, 5F046AA28
Patent cited by the Patent:
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