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J-GLOBAL ID：200903074422556582

流動層装置における硫黄分の除去方法及び脱硫剤

Inventor：
藤原 尚樹

About 藤原 尚樹


Applicant, Patent owner：
出光興産株式会社

About 出光興産株式会社


Agent (1)： 渡辺 喜平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004100913
Publication number (International publication number)：2005098673
Application date： Mar. 30, 2004
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：
【課題】 流動層炉における硫黄分の除去方法及び脱硫剤を提供する。【解決手段】 流動層燃焼により燃料及び/又は原料を燃焼させる流動層炉において、炉内で発生するガス中の硫黄分を除去する方法であって、ライムケーキを含む脱硫剤を炉内に投入することを特徴とする硫黄分の除去方法。好ましくは、ライムケーキの粒子径は0.08mm以上であり、燃料及び/又は原料の硫黄分に対する脱硫剤のCa分は0.5〜7(モル比)である。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
流動層装置において、流動層炉内で発生するガス中の硫黄分を除去する方法であって、ライムケーキを含む脱硫剤を流動層炉内に投入することを特徴とする流動層装置における硫黄分の除去方法。
IPC (5)：
F23C10/00 ,  B01D53/50 ,  B01D53/81 ,  B01J20/04 ,  C10K1/30
FI (4)：
F23C11/02 304 ,  B01J20/04 C ,  C10K1/30 ,  B01D53/34 124Z
F-Term (38)：
3K064AA02 ,  3K064AB03 ,  3K064AC01 ,  3K064AC05 ,  3K064AD03 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AF03 ,  3K064BA03 ,  3K064BA07 ,  3K064BA19 ,  3K064BB03 ,  4D002AA02 ,  4D002AC04 ,  4D002BA03 ,  4D002DA05 ,  4D002DA16 ,  4D002DA66 ,  4D002FA03 ,  4D002GA01 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D002HA08 ,  4G066AA43B ,  4G066AA75B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066CA23 ,  4G066DA02 ,  4G066FA26 ,  4G066FA37 ,  4H060BB02 ,  4H060BB03 ,  4H060BB04 ,  4H060BB22 ,  4H060CC04 ,  4H060DD12 ,  4H060FF03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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