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J-GLOBAL ID：200903074567198196

平面表示装置用Ag合金系反射膜、Ag合金系反射膜形成用スパッタリングターゲット材および平面表示装置

Inventor：
村田 英夫

About 村田 英夫


Applicant, Patent owner：
日立金属株式会社

About 日立金属株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002083167
Publication number (International publication number)：2003279715
Application date： Mar. 25, 2002
Publication date： Oct. 02, 2003
Summary：
【要約】【課題】 高い反射率を維持した上で、可視光範囲での反射率が一定値になり、耐熱性、耐食性を兼ね備え、さらに基板への密着性とパタニング性を改善したAg合金系反射膜とそのAg合金系反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットおよびより高品位かつ低消費電力な平面表示装置を提供する。【解決手段】 Smを0.1〜0.5at%、Auおよび/またはCuを合計で0.1〜0.5at%含み残部実質的にAgからなる平面表示装置用Ag合金系反射膜である。また、上記組成を有したAg合金系反射膜を用いた平面表示装置である。そして、本発明は、Smを0.1〜0.5at%、Auおよび/またはCuを合計で0.1〜0.5at%含み残部実質的にAgからなることを特徴とするAg合金系反射膜形成用スパッタリングターゲット材である。
Claim (excerpt)：
Smを0.1〜0.5at%、Auおよび/またはCuを合計で0.1〜0.5at%含み残部実質的にAgからなることを特徴とする平面表示装置用Ag合金系反射膜。
IPC (4)：
G02B 5/08 ,  C22C 5/06 ,  C23C 14/34 ,  G02F 1/1335 520
FI (5)：
G02B 5/08 A ,  G02B 5/08 Z ,  C22C 5/06 Z ,  C23C 14/34 A ,  G02F 1/1335 520
F-Term (14)：
2H042DA04 ,  2H042DA12 ,  2H042DB06 ,  2H042DC00 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H091FA14Z ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC29 ,  4K029BA22 ,  4K029BD00 ,  4K029BD09 ,  4K029DC04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (6)
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