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J-GLOBAL ID：200903074633558093

光放射を提供する装置

Inventor： ダーキン,マイケル ケバン ,  ギリンゲッリ,ファビオ ,  ジルーリー,アンドリュー マイケル ,  ヒッキー,ルイーズ メアリー ブレンダン ,  ノーマン,スティーブン ロイ ,  ペイン,デイビッド ニール ,  パイパー,アンディ ,  サフー,ジャヤンタ クマール ,  ゼルバス,ミカイル ニコラオス
Applicant, Patent owner： エスピーアイ レーザーズ ユーケー リミテッド
Agent (4)： 青木 篤 ,  鶴田 準一 ,  水谷 好男 ,  森 啓
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009508486
Publication number (International publication number)：2009536785
Application date： May. 10, 2007
Publication date： Oct. 15, 2009
Summary：

光放射(381)を提供する装置(380)であって、装置は、シーディング放射(387)を提供するシードレーザー(382)と、シーディング放射(387)を増幅する少なくとも1つの増幅器(383)と、反射器(384)と、を有し、この場合に、シードレーザー(382)は、ファブリペロー半導体レーザーであり、シードレーザー(382)は、反射器(384)を介して増幅器(383)に接続され、反射器(384)は、ファイルシードレーザー(382)によって放射されたシーディング放射(387)の中のある比率(388)をシードレーザー(382)内に反射して戻すべく構成され、且つ、増幅器(383)は、屈折率n1を具備したコア(3)と、屈折率n2を具備したペデスタル(4)と、を有する光ファイバ(1)を有し、且つ、この場合に、光ファイバ(1)は、ペデスタル(4)を取り囲む屈折率n3を具備したガラスから製造された第1クラッディング(5)を含み、この場合に、n1はn2より大きく、且つ、n2はn3より大きい。【選択図】図38

Claim (excerpt)：

光放射を提供する装置であって、シーディング放射を提供するシードレーザーと、前記シーディング放射を増幅する少なくとも1つの増幅器と、反射器と、を有する装置において、 ・前記シードレーザーは、ファブリペロー半導体レーザーであり、 ・前記シードレーザーは、前記反射器を介して前記増幅器に接続され、 ・前記反射器は、前記シードレーザーによって放射された前記シーディング放射の中のある比率を前記シードレーザー内に反射して戻すべく構成され、且つ、 ・前記増幅器は、屈折率n1を具備したコアと、屈折率n2を具備したペデスタルと、を有する光ファイバを有し、且つ、この場合に、前記光ファイバは、前記ペデスタルを取り囲む屈折率n3を具備したガラスから製造された第1クラッディングを含み、この場合に、 ・n1はn2より大きく、 ・n2はn3より大きい、装置。

IPC (1)：

H01S 3/06

FI (1)：

H01S3/06 B

F-Term (27)：

5F172AE12 ,  5F172AE13 ,  5F172AF01 ,  5F172AF02 ,  5F172AF03 ,  5F172AF04 ,  5F172AF05 ,  5F172AF06 ,  5F172AF14 ,  5F172AF15 ,  5F172AG03 ,  5F172AM08 ,  5F172DD03 ,  5F172DD04 ,  5F172EE13 ,  5F172EE16 ,  5F172NN11 ,  5F172NN13 ,  5F172NN17 ,  5F172NQ07 ,  5F172NQ15 ,  5F172NQ25 ,  5F172NR03 ,  5F172NR04 ,  5F172NR13 ,  5F172NR14 ,  5F172NR22

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 光増幅用光ファイバ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-214683   Applicant：古河電気工業株式会社
• 増幅され波長シフトされたパルス列を使用してターゲット材料を処理するためのエネルギー効率の良い方法及びシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-503483   Applicant：ジェネラルスキャニングインコーポレイテッド
• 先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-524863   Applicant：イムラアメリカインコーポレイテッド
• ファイバレーザ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-221426   Applicant：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
• ファイバ格子-安定化半導体ポンプソース
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-599104   Applicant：エスディーエル,インコーポレイテッド
• 高パワー、キンクフリー、単一モードレーザーダイオード
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-073169   Applicant：エスディーエル,インコーポレイテッド
• 光送信器及び光送信方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-023717   Applicant：日本電気株式会社
• 波長多重光増幅器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-229164   Applicant：富士通株式会社
• 高出力パルス光用ファイバ及び光増幅装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-111739   Applicant：三菱電線工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS, 20010501, V13 N5, P415-417
• PROCEEDINGS OF THE SPIE, 20060101, V6102, P61020Q-1 - 61020Q-11
• PHOTODARKENING IN YTTERBIUM-DOPED SILICA FIBERS