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J-GLOBAL ID：200903074658651047

プラズマエッチング用陽極電極板

Inventor： 小山内 文貴 ,  三島 昭史
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994340666
Publication number (International publication number)：1996134667
Application date： Nov. 02, 1994
Publication date： May. 28, 1996
Summary：

【要約】【目的】 パーティクルが発生することのないプラズマエッチング用陽極電極板を提供する。【構成】 厚さ方向に平行に貫通細孔5が設けられているプラズマエッチング用陽極電極板2において、上記貫通細孔5の開口端部に面取り8が形成されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

厚さ方向に平行に貫通細孔が設けられているプラズマエッチング用陽極電極板において、上記貫通細孔の開口端部に面取りが形成されていることを特徴とするプラズマエッチング用陽極電極板。

IPC (3)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• プラズマエッチング用電極板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-361434   Applicant：イビデン株式会社
• 特開平4-332126
  
• プラズマエッチング用電極
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-350446   Applicant：日清紡績株式会社
• ドライエッチング装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-093435   Applicant：東京エレクトロン山梨株式会社
• 特開平4-272172
  
• 特開平2-076275
  
• スパッタリング用ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-038979   Applicant：三菱マテリアル株式会社