流体制御装置及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山下穣平 , 志村博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002363129
Publication number (International publication number)：2004188395
Application date： Dec. 13, 2002
Publication date： Jul. 08, 2004
Summary：

【課題】超微細な細孔、とくに平均直径が10nm以下(好ましくは3nm以下)の細孔を有し、且つフラックス量のとれる流体制御装置を提供する。【解決手段】流体制御装置は、細孔13を有する陽極酸化アルミナ皮膜11と、AlSi混合膜から得られた微細孔14を有するシリコン系微細孔皮膜12とを有する構成であって、細孔13と微細孔14との少なくとも一部が互いに接合されている。この流体制御装置の作製方法は、少なくともアルミニウムとAlSi混合膜を有する膜から、アルミニウム部分は陽極酸化法によって細孔膜である陽極酸化アルミナ皮膜11を形成し、AlSi混合膜から陽極酸化法もしくはエッチング法によりシリコンを主体とした微細孔膜であるシリコン系微細孔皮膜12を形成する。シリコン系微細孔膜12には、アモルファスシリコンと酸化シリコンがあり、その細孔径は10nm以下である。この流体制御装置は、液体や気体を透過されて用いるフィルターや限外濾過膜に使用可能である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

アルミニウムを主体とした素材を陽極酸化した細孔を有する膜と、シリコンを主体とし且つ前記細孔よりも径の小さい微細孔を有する膜とを有し、前記細孔と前記微細孔との少なくとも一部が制御すべき流体の流路に沿って互いに連結されていることを特徴とする流体制御装置。

IPC (8)：

B01D71/02 , B01D67/00 , B01D69/12 , B81B1/00 , B81C1/00 , C23F1/00 , C25D11/04 , C25D11/18

FI (9)：

B01D71/02 , B01D67/00 , B01D69/12 , B81B1/00 , B81C1/00 , C23F1/00 A , C25D11/04 302 , C25D11/04 308 , C25D11/18 Z

F-Term (26)：

4D006GA06 , 4D006MA03 , 4D006MA06 , 4D006MA22 , 4D006MB02 , 4D006MB03 , 4D006MC02 , 4D006MC02X , 4D006MC03 , 4D006MC03X , 4D006NA32 , 4D006NA33 , 4D006NA45 , 4D006NA50 , 4D006NA62 , 4D006PA01 , 4D006PB70 , 4K057WA20 , 4K057WB05 , 4K057WE02 , 4K057WE03 , 4K057WE04 , 4K057WE08 , 4K057WE21 , 4K057WK10 , 4K057WN10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開昭62-129106
シリコン酸化物ナノ構造体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-363162 Applicant：キヤノン株式会社
特開昭62-279806