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J-GLOBAL ID：200903093111205756

ポリマ導波路及びその製造方法

Inventor：
井本 克之

About 井本 克之


Applicant, Patent owner：
日立電線株式会社

About 日立電線株式会社


Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996113732
Publication number (International publication number)：1997297232
Application date： May. 08, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：
【要約】【課題】 光損失の少ないポリマ導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ポリマ材料中に含まれているCH基の結合を切断することによって、CH基による光の固有吸収損失が低減する。このCH基を切断するためにはCH基の結合解離エネルギー約100Kcal/molよりも大きい光子エネルギー(約120Kcal/mol)をもつKrFエキシマレーザ(波長約249nm)23か或いは、光子エネルギーが約125Kcal/molのKrClエキシマレーザ(波長222nm)の光をポリマ材料に照射すればよい。このようなエキシマレーザ光23が照射されたポリマ材料からなるコア21を用いることによりポリマ導波路の光損失が低減する。
Claim (excerpt)：
基板上に形成された低屈折率のクラッド層内に、該クラッド層よりも屈折率が高い略矩形断面形状のコアが設けられたポリマ導波路において、上記コアがKrF或いはKrClエキシマレーザ光を照射することによりCH基が低減されていることを特徴とするポリマ導波路。
IPC (2)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (2)：
G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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