位相シフトマスクパターン

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大垣孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996151082
Publication number (International publication number)：1997329888
Application date： Jun. 12, 1996
Publication date： Dec. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】結像位置を確認・調整するのに好適な位相シフトマスクパターンを提供すること。【解決手段】長方形の遮光パターン11と、遮光パターン11を挟んでその長辺の両側に、長辺に接して設けられた第1の位相シフタパターン13aおよび第2の位相シフタパターン13bとから構成され、全体として長方形をなしている。遮光パターン11の中心を通り、長辺に平行な軸Sに対して第1および第2の位相シフタパターン13a、13bは線対称に配置されている。

Claim (excerpt)：

遮光パターンと、該遮光パターンの両側に並置して設けられた第1の位相シフタパターンおよび第2の位相シフタパターンとから構成される位相シフトマスクパターンであって、前記第1および第2の位相シフタパターンは、前記遮光パターン下方での光強度が該遮光パターンから被投影体に向かう方向に沿って変動することとなるように、これら位相シフタパターンを透過した光と本来の光透過領域を透過した光との間に干渉を生じさせる位相角のものとなっていることを特徴とする位相シフトマスクパターン。

IPC (2)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

光学焦点テストマスクと監視システム及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-229601 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
露光用マスク及び露光方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-224879 Applicant：富士通株式会社
光学マスク加工方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-303117 Applicant：株式会社日立製作所

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