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J-GLOBAL ID：200903075028823822

光周波数測定システム

Inventor： 興梠 元伸 ,  今井 一宏 ,  バンバン ウィディヤトモコ
Applicant, Patent owner： 株式会社光コム研究所
Agent (6)： 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司 ,  藤井 稔也 ,  野口 信博 ,  山口 茂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004205076
Publication number (International publication number)：2006029821
Application date： Jul. 12, 2004
Publication date： Feb. 02, 2006
Summary：

【課題】高速且つ高分解能な光周波数測定を行う。【解決手段】光周波数可変レーザ光源12が出射する周波数f2を掃引し、光周波数コムLcomのN次のサイドバンドと被測定レーザ光Lxとを第1の光合成器16により合成した干渉光LAの干渉周波数fAと、レーザ光源11から出射される基準光と上記光周波数可変レーザ光源12からの光とを第2の光合成器17により合成した干渉光LBの干渉周波数fBの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生器14の変調周波数fmを微少周波数Δfだけ変更させ、第1及び第2の周波数カウンタ20,21により各干渉周波数fA,fBを測定し、上記微少周波数Δfに対する各干渉周波数fA,fBの変化分から、上記被測定レーザ光Lxが干渉している上記光周波数コムの次数Nを求め、決定した次数Nを用いて、 fx=f1±fB+ Nfm±fAにて上記被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

基準となる周波数f1の第1のレーザ光L1を出射するレーザ光源と、 高出力の第2のレーザL2を出射する光周波数可変レーザ光源と、 上記光周波数可変レーザ光源から出射された第2のレーザL2が入射される光周波数コム発生器と、 上記光周波数コム発生器に与える変調信号SMODを発生する変調信号発生器と、 上記光周波数コム発生器により生成された光周波数コムLcomと被測定レーザ光Lxとを合成する第1の光合成器と、 上記光周波数可変レーザ光源から出射された第2のレーザL2が光分離器を介して入射され、上記レーザ光源から出射された第1のレーザ光L1と上記第2のレーザ光L2とを合成する第2の光合成器と、 上記第1の光合成器により合成された光周波数コムLcomと被測定レーザ光Lxの干渉光LAの光強度の変化を検出する第1の光検出器と、 上記第2の光合成器により合成された上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉光LBの光強度の変化を検出する第2の光検出器と、 上記第1の光検出器により得られる検出信号DAに基づいて上記第1のレーザ光L1と第2のレーザ光L2との干渉周波数fAを測定する第1の周波数カウンタと、 上記第2の光検出器により得られる検出信号DBに基づいて上記光周波数コムLcomと被測定レーザ光Lxとの干渉周波数fBを測定する第2の周波数カウンタと、 上記光周波数可変レーザ光源及び変調信号発生器の動作を制御して、上記第1及び第2の周波数カウンタにより測定される各干渉周波数fA,fBに基づいて、上記被測定レーザ光Lxの周波数fxを決定する測定制御部とを備え、 上記測定制御部は、上記光周波数可変レーザ光源が出射する第2のレーザの周波数を掃引し、各干渉周波数fA,fBの変化する方向を特定した状態で、上記光周波数コム発生手段の変調周波数fmを微少周波数Δfだけ変更させて、上記第1及び第2の周波数カウンタにより各干渉周波数fA,fBを測定し、上記微少周波数Δfに対する各干渉周波数fA,fBの変化分から、上記被測定レーザ光が干渉している上記光周波数コムの次数Nを求める処理を複数回行って、その平均値により上記光周波数コムの次数Nを決定し、決定した次数Nを用いて、 fx=f1±fB+ Nfm±fA にて上記被測定レーザ光の周波数fxを決定することを特徴とする光周波数測定システム。

IPC (1)：

G01J 9/00

FI (1)：

G01J9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 光周波数測定システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-370491   Applicant：科学技術振興事業団
• 光スペクトラム測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-261427   Applicant：アンリツ株式会社
• 光周波数測定装置および測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-215590   Applicant：日本電信電話株式会社

Cited by examiner (1)

• 光スペクトラム測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-261427   Applicant：アンリツ株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 2002年(平成14年)秋季 第63回応用物理学会学術講演会予稿集 第0分冊, 20020924, p.1
• 1998年(平成10年)秋季 第59回応用物理学会学術講演会予稿集 第3分冊, 19980915, p.953
• 1998年(平成10年)春季 第45回応用物理学関係連合講演会予稿集 第3分冊, 19980328, p.1085
• 1997年(平成9年)春季 第44回応用物理学関係連合講演会予稿集 第3分冊, 19970328, p.1018