洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996338695
Publication number (International publication number)：1998177978
Application date： Dec. 18, 1996
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】ウエット処理液の使用量を従来の10分の1以下へと低減することができ、しかも従来よりも高い清浄度を得ることができる洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置を提供すること。【解決手段】一端にウエット処理液5を導入するための導入口7を有する導入通路10と、一端にウエット処理後のウエット処理液5‘をウエット処理の系外へ排出するための排出口15を有する排出通路12とを形成し、該導入通路10と該排出通路12とをそれぞれの他端において交差せしめて交差部14を形成するとともに該交差部14に、被ウエット処理物(基板)1に向けて開口する開口部6を設けてなる。

Claim (excerpt)：

一端にウエット処理液を導入するための導入口を有する導入通路と一端にウエット処理後のウエット処理液をウエット処理の系外へ排出するための排出口を有する排出通路とを形成し、該導入通路と該排出通路とをそれぞれの他端において交差せしめて交差部を形成するとともに該交差部に、被ウエット処理物に向けてメッシュ状に開口する開口部を設けたことを特徴とするウエット処理液供給ノズル。

IPC (5)：

H01L 21/304 341 , C23F 1/08 103 , C23G 3/00 , H01L 21/027 , H01L 21/306

FI (6)：

H01L 21/304 341 N , C23F 1/08 103 , C23G 3/00 A , H01L 21/30 569 A , H01L 21/30 572 B , H01L 21/306 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

基板表面処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-337750 Applicant：日産自動車株式会社
洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-080217 Applicant：凸版印刷株式会社
特開平2-277237

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