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J-GLOBAL ID:200903075661622739
リソグラフィ投影装置、素子製造方法、およびそれによって製造される素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002001119
Publication number (International publication number):2003007611
Application date: Jan. 08, 2002
Publication date: Jan. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】 放射源によって生成された望ましくない汚染物質を除去する。【解決手段】 投影ビームと共に移動する汚染物質粒子をイオン化する。パージ・ガス供給源の上流に設けたゲッター板の方向に、パージ・ガスを引き付けることができる。磁界によって、イオン化装置が発生した電子を閉じ込めて、パージ・ガスのイオン化を改善する。幅よりも大きい長さを有する管内にプラズマを発生することで、汚染物質粒子をイオン化することができる。
Claim (excerpt):
マスク内のマスク・パターンを基板上に結像するためのリソグラフィ投影装置であって:放射の投影ビームを供給するように構成され配置された照射システムと;マスクを保持するように構成された第1の物体テーブルと;基板を保持するように構成された第2の物体テーブルと;前記マスクの照射部分を前記基板の対象部分上に結像するように構成および配置された投影システムと;を備え、前記投影ビームが横断する領域に、気体をイオン化するためのイオン化手段を備えた汚染物質バリアを設けることを特徴とする、リソグラフィ投影装置。
IPC (5):
H01L 21/027
, B03C 3/38
, G03F 7/20 521
, H01J 27/02
, H01J 37/08
FI (7):
B03C 3/38
, G03F 7/20 521
, H01J 27/02
, H01J 37/08
, H01L 21/30 531 Z
, H01L 21/30 516 F
, H01L 21/30 503 G
F-Term (15):
4D054AA20
, 4D054BB05
, 4D054BB24
, 4D054BC02
, 4D054EA01
, 5C030DD01
, 5C030DD04
, 5C030DE05
, 5C030DE07
, 5C030DE09
, 5F046AA22
, 5F046GA07
, 5F046GA20
, 5F046GB02
, 5F046GB09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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レーザプラズマX線源
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-027301
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭62-268048
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特開昭56-116622
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Cited by examiner (8)
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レーザプラズマX線源およびそれを用いた半導体露光装置並びに半導体露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-024731
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭62-268048
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特開平2-102725
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レーザープラズマX線源のデブリス除去方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-149267
Applicant:関西電力株式会社, 財団法人レーザー技術総合研究所, 中井貞雄
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特開昭56-116622
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レーザプラズマX線発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-038113
Applicant:株式会社日立製作所
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のぼり旗及びその基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-135836
Applicant:株式会社カネブン
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旗のぼり
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-060785
Applicant:株式会社紅屋商店
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