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J-GLOBAL ID:200903075763689862

非平面基板での結像用反射システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三好 秀和 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000559475
Publication number (International publication number):2002520838
Application date: Jul. 09, 1999
Publication date: Jul. 09, 2002
Summary:
【要約】球状半導体基板20等の非平面基板20又は非平面デバイスの表面に像を集束させ、隣接する像間の位置ずれや重複問題を実質的になくすシステム39及び方法。システム39は、リング10に配設された複数のミラー12、14、16、ミラーのリングに対して非平面基板20又は非平面デバイスを配置するために上下運動する支持体24を含む。非平面基板20又は非平面デバイスは、各ミラーが基板の表面に集束された像を反射できるように配置される。像はミラーのリングに対して配置されたマスク26を用いて生成され、非平面基板20又は非平面デバイスの表面に像を投影するように照明される。方法は、非平面基板20又はデバイスをミラーのリング内に配置するステップ、それぞれにステッチング相互接続84aがある複数のセグメント76、78を有するマスク26を作製するステップ、非平面基板20又は非平面デバイスの表面に像を反射させるように、ミラーのリングにマスク26の像を投影するステップとを含む。
Claim (excerpt):
非平面基板の表面に像を投影するためのシステムであって、 リングに配設され、前記非平面基板の表面上に像を反射させるための複数のミラーと、 前記非平面基板の表面上に像を集束させるための集束手段と、 それぞれのミラーから前記非平面基板の表面上に集束された像を反射させるように、前記ミラーのリングに対して前記非平面基板の位置を決めるための、前記ミラーのリングの中心に対して往復運動する支持体と、 前記非平面基板の表面に前記像が投影されるように、前記ミラーのリングに対して配置された前記像を有するマスク とを備えることを特徴とするシステム。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G02B 17/08 ,  G03F 7/24
FI (4):
G02B 17/08 Z ,  G03F 7/24 H ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 502 Z
F-Term (7):
2H087KA21 ,  2H087TA01 ,  5F046BA05 ,  5F046CB03 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25 ,  5F046DA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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