Pat
J-GLOBAL ID:200903075992642993

3族窒化物半導体発光素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤谷 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996299498
Publication number (International publication number):1998125956
Application date: Oct. 22, 1996
Publication date: May. 15, 1998
Summary:
【要約】【課題】 紫外線領域の光を発光する3族窒化物半導体発光素子の発光強度を向上させること。【解決手段】 3族窒化物半導体から成る紫及び紫外線領域の光を発光する発光層4を有する発光素子において、発光層4の上部に形成されるp-クラッド層5のAlGaN のアルミニウム組成率を8%以上30%以下とし、かつ、p-クラッド層5厚さを70nm以下にした。さらに、p-クラッド層5の上部に形成されるp-コンタクト層6を薄膜化すること、及び発光層4の下部に形成されるn-クラッド層3をAlGaN で形成すること、及び基板であるサファイア層1の裏面に反射膜10を取り付けることにより、紫及び紫外線領域の光の発光強度が向上した。
Claim (excerpt):
3族窒化物半導体から成る発光層と発光層の上に形成されるp-クラッド層とを有する発光素子において、前記p-クラッド層は厚さ70nm以下の0.08≦x1≦0.3であるマグネシウム(Mg)ドープAlx1Ga1-x1N から成ることを特徴とする3族窒化物半導体発光素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 発光素子
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-190069   Applicant:豊田合成株式会社, 新技術事業団, 赤崎勇, 天野浩
  • 特開昭59-018688
  • 特開昭63-301573
Show all

Return to Previous Page