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J-GLOBAL ID:200903075992642993
3族窒化物半導体発光素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤谷 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996299498
Publication number (International publication number):1998125956
Application date: Oct. 22, 1996
Publication date: May. 15, 1998
Summary:
【要約】【課題】 紫外線領域の光を発光する3族窒化物半導体発光素子の発光強度を向上させること。【解決手段】 3族窒化物半導体から成る紫及び紫外線領域の光を発光する発光層4を有する発光素子において、発光層4の上部に形成されるp-クラッド層5のAlGaN のアルミニウム組成率を8%以上30%以下とし、かつ、p-クラッド層5厚さを70nm以下にした。さらに、p-クラッド層5の上部に形成されるp-コンタクト層6を薄膜化すること、及び発光層4の下部に形成されるn-クラッド層3をAlGaN で形成すること、及び基板であるサファイア層1の裏面に反射膜10を取り付けることにより、紫及び紫外線領域の光の発光強度が向上した。
Claim (excerpt):
3族窒化物半導体から成る発光層と発光層の上に形成されるp-クラッド層とを有する発光素子において、前記p-クラッド層は厚さ70nm以下の0.08≦x1≦0.3であるマグネシウム(Mg)ドープAlx1Ga1-x1N から成ることを特徴とする3族窒化物半導体発光素子。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-190069
Applicant:豊田合成株式会社, 新技術事業団, 赤崎勇, 天野浩
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特開昭59-018688
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特開昭63-301573
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基板上の単結晶半導体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-007976
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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3-5族化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-170774
Applicant:住友化学工業株式会社
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3-5族化合物半導体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-261477
Applicant:住友化学工業株式会社
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