濡れ性が制御された膜及びその形成方法並びに濡れ性制御膜被覆物品

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：谷川昌夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004139525
Publication number (International publication number)：2005320585
Application date： May. 10, 2004
Publication date： Nov. 17, 2005
Summary：

【課題】流体の流れ、流体の付着分布、流体の付着量等の流体制御のうち少なくとも一つを簡単に行える表面を備え、そのような流体制御が要求される或いは望ましい物品に形成可能である膜及び該膜の形成方法並びにかかる膜で被覆されることで所望の流体制御を行える物品を提供する。【解決手段】濡れ性が異なる少なくとも2種類の面領域(f11〜f16、f21〜f25)を含む表面を有する濡れ性が制御された炭素膜(F1、F2)。該炭素膜で被覆された物品(板状体P、摺動部品SL)。該炭素膜の形成方法であって、該炭素膜を形成する物品を準備する工程と、該物品の少なくとも一部に表面濡れ性が異なる少なくとも2種類の炭素膜部分を形成することで濡れ性が異なる少なくとも2種類の面領域を含む表面を有する炭素膜を形成する工程とを含む濡れ性が制御された炭素膜の形成方法。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

濡れ性が異なる少なくとも2種類の面領域を含む表面を有することを特徴とする濡れ性が制御された炭素膜。

IPC (1)：

C23C16/27

FI (1)：

C23C16/27

F-Term (5)：

4K030AA09 , 4K030BA28 , 4K030CA07 , 4K030DA05 , 4K030FA03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

自動車用部品及びそれらの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-202916 Applicant：日新電機株式会社

Cited by examiner (6)

特開昭64-039379
コンビナトリアル薄膜形成方法及びコンビナトリアルプラズマCVD装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-146409 Applicant：科学技術振興事業団
炭素膜及びその形成方法並びに炭素膜被覆物品及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-172130 Applicant：日新電機株式会社

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