気体含有超純水供給装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：内山充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997334430
Publication number (International publication number)：1999166700
Application date： Dec. 04, 1997
Publication date： Jun. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】特定の気体の溶存濃度が制御された洗浄用の気体含有超純水を連続的に製造し、ユースポイントにおける断続的な使用に対しても、安定的かつ迅速に供給し得る気体含有超純水供給装置を提供する。【解決手段】気体を含有する超純水を移送する気体含有超純水供給主配管と、主配管から分岐してユースポイントに連結する枝管と、枝管に配置された気体含有超純水を貯留するバッファータンクとを有することを特徴とする気体含有超純水供給装置。

Claim (excerpt)：

気体を含有する超純水を移送する気体含有超純水供給主配管と、主配管から分岐してユースポイントに連結する枝管と、枝管に配置された気体含有超純水を貯留するバッファータンクとを有することを特徴とする気体含有超純水供給装置。

IPC (5)：

F17D 1/08 , B08B 3/04 , B67D 5/00 , H01L 21/304 648 , C11D 7/02

FI (5)：

F17D 1/08 , B08B 3/04 Z , B67D 5/00 , H01L 21/304 648 K , C11D 7/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

回転薬液洗浄方法及び洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-150897 Applicant：大見忠弘, 日曹エンジニアリング株式会社, 株式会社エムテーシー
シリコンウェーハの洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-351260 Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
超臨界流体を利用した洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-009442 Applicant：シャープ株式会社

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