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J-GLOBAL ID：200903076291076515

基板処理装置、基板処理方法、クリーニング方法

Inventor：
神力 博

About 神力 博

, 
荒見 淳一

About 荒見 淳一


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006147135
Publication number (International publication number)：2006222468
Application date： May. 26, 2006
Publication date： Aug. 24, 2006
Summary：
【課題】分子層の吸着および酸化を交互に繰り返す基板処理装置において、前記酸化処理をプラズマ励起されたラジカルにより行うことにより、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置、およびかかる基板処理装置を使った基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理装置は、被処理基板を保持する基板保持台を備えた処理容器と、前記処理容器中において前記基板保持台の第1の側に形成された処理ガス導入口と、前記処理容器の、前記基板保持台に対して前記第1の側とは異なる第2の側に形成されたラジカル源と、前記処理容器中において前記第1の側に形成された第1の排気口と、前記処理容器中において前記第2の側に形成された第2の排気口と、前記第1の排気口に第1の可変コンダクタンスバルブを介して結合され、前記第2の排気口に第2の可変コンダクタンスバルブを介して結合された排気系とよりなる。【選択図】図19
Claim (excerpt)：
被処理基板を保持する基板保持台を備えた処理容器と、 前記処理容器中において前記基板保持台の第1の側に形成された処理ガス導入口と、 前記処理容器の、前記基板保持台に対して前記第1の側とは異なる第2の側に形成されたラジカル源と、 前記処理容器中において前記第1の側に形成された第1の排気口と、 前記処理容器中において前記第2の側に形成された第2の排気口と、 前記第1の排気口に第1の可変コンダクタンスバルブを介して結合され、前記第2の排気口に第2の可変コンダクタンスバルブを介して結合された排気系とよりなる基板処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/31 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/306
FI (3)：
H01L21/31 A ,  H01L21/316 C ,  H01L21/302 101H
F-Term (40)：
5F004AA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA03 ,  5F004BB11 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BC03 ,  5F004CA01 ,  5F004CA08 ,  5F004DA04 ,  5F004DA16 ,  5F004DA17 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB13 ,  5F004DB14 ,  5F045AA04 ,  5F045AA08 ,  5F045AA16 ,  5F045AB31 ,  5F045BB08 ,  5F045CA05 ,  5F045EB06 ,  5F045EE04 ,  5F045EE11 ,  5F045EE14 ,  5F045EE17 ,  5F045EE20 ,  5F045EH01 ,  5F045EM10 ,  5F058BA06 ,  5F058BA11 ,  5F058BC03 ,  5F058BC09 ,  5F058BF06 ,  5F058BF27 ,  5F058BF73 ,  5F058BF74 ,  5F058BJ04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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