表面弾性波を用いたマイクロビーム照射領域検出方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：社本一夫 , 増井忠弐 , 小林泰 , 千葉昭男 , 富田博行 , 桜井周矩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004232212
Publication number (International publication number)：2006047244
Application date： Aug. 09, 2004
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：

【課題】従来の方法では不可能であったマイクロビーム照射による照射像の二次元的な形状を、長寿命な素子で、高分解能(時問・空間)に計測することにある。【解決手段】長寿命な素子で、高分解能(時間・空間)に計測する手段として、表面弾性波を効率的に誘起・伝播する特性を持ち、放射線に対して耐性をもつ物質にマイクロビームの形状を持つ放射線を照射することにより励起される表面弾性波を検出することにより、マイクロビーム照射による照射像の二次元的な形状を、計測する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

標的物質に、マイクロビーム(マイクロメートルのビーム形状をもつ放射線(電子線、軽イオン、重イオン))を照射することによって励起する表面弾性波を用いて、照射面におけるビームの形状、強度、頻度を測定する、表面弾性波を用いたマイクロビーム照射領域検出方法。

IPC (3)：

G01T 1/29 , G01N 29/00 , G21K 5/04

FI (3)：

G01T1/29 A , G01N29/00 501 , G21K5/04 C

F-Term (16)：

2G047BC02 , 2G047BC18 , 2G047CA04 , 2G047CA07 , 2G047CB03 , 2G047EA01 , 2G047EA08 , 2G047EA21 , 2G047GB21 , 2G047GD01 , 2G047GG46 , 2G088FF12 , 2G088FF13 , 2G088FF14 , 2G088FF20 , 2G088GG30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

荷電粒子ビーム計測装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-325021 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭61-062887
特開昭63-274891

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