3次元構造観察用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小川勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996264067
Publication number (International publication number)：1998111223
Application date： Oct. 04, 1996
Publication date： Apr. 28, 1998
Summary：

【要約】【課題】微細に加工された半導体デバイス内の所望の箇所の3次元的構造を観察するための電子顕微鏡用試料作製装置、電子顕微鏡及びその方法を提供する。【解決手段】試料片10の加工にダイサーを用い、試料片上の観察対象となる部分を突起状に削り出す加工に集束イオンビーム加工を用い、試料片10を1軸全方向傾斜試料ホルダに、突起11の中心軸と試料傾斜軸Zを一致させて固定し、高角に散乱された電子で結像したTEM像を投影像として用い、再構成を行う。

Claim (excerpt)：

イオン源,コンデンサレンズ,対物レンズ,試料ホルダ,試料回転・移動機構,試料冷却機構,質量分析器,画像記録装置及び制御用計算機からなる集束イオンビーム加工装置であって、観察対象を内包する突起部分を有する形状に試料を加工するイオンビーム偏向器,イオンビーム制御機構及びブランカを具備することを特徴とする3次元構造観察用試料作製装置。

IPC (5)：

G01N 1/28 , G01N 1/32 , H01J 37/20 , H01J 37/22 501 , H01J 37/30

FI (6)：

G01N 1/28 G , G01N 1/32 B , H01J 37/20 A , H01J 37/20 C , H01J 37/22 501 A , H01J 37/30 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

透過型電子顕微鏡及び元素分布観察方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-322721 Applicant：株式会社日立製作所
電子顕微鏡の試料支持方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-341036 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-337236

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