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J-GLOBAL ID：200903076401688066

移動ステージ装置およびこれを用いた露光装置

Inventor：
是永 伸茂

About 是永 伸茂


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996177418
Publication number (International publication number)：1998012539
Application date： Jun. 18, 1996
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：
【要約】【課題】 レチクルステージ等の重さを相殺する自重補償手段を設けて転写精度を向上させる。【解決手段】 レチクルステージ3は、リニアモータ固定子4,5とリニアモータ可動子6,7からなるリニアモータによってガイド2上をY軸方向に走査される。リニアモータ可動子6,7の頂部に吸引磁石9a〜9dを配設し、その上方の磁性体9eに対向させて磁気吸引力によってレチクルステージ3等の重さを相殺する。磁性体9eは、ガイド2を支持する露光装置のフレームと別体である支柱9fによって支持されるため、レチクルステージ3が移動しても露光装置全体の重心位置は変化せず、フレームの変形による転写ずれ等を回避できる。
Claim (excerpt)：
第1の支持手段に支持された案内手段に沿って移動自在である移動ステージと、これを移動させる駆動手段と、前記移動ステージを上向きに付勢する自重補償手段を有し、該自重補償手段が、前記第1の支持手段と別体である第2の支持手段に支持されていることを特徴とする移動ステージ装置。
IPC (7)：
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03B 27/58 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68 ,  H02K 41/02
FI (9)：
H01L 21/30 518 ,  G03B 27/32 F ,  G03B 27/58 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 K ,  H02K 41/02 C ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 G
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (5)
  • 特開平4-013533
  • 自重支持装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-277325   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開昭63-259492
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