Pat
J-GLOBAL ID：200903076786646016

ポジ型レジスト組成物

Inventor：
水谷 一良

About 水谷 一良

, 
佐々木 知也

About 佐々木 知也

, 
漢那 慎一

About 漢那 慎一


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002196924
Publication number (International publication number)：2004037978
Application date： Jul. 05, 2002
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：
【課題】160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、且つラインエッジラフネス、現像欠陥及びスカムが少ないポジ型レジスト組成物を提供することである。【解決手段】(A)側鎖に環状炭化水素構造とフッ素原子とを有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F7/039 ,  C08F16/26 ,  C08F220/22 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  C08F16/26 ,  C08F220/22 ,  H01L21/30 502R
F-Term (28)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC09Q ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM