洗浄液および洗浄方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福森久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996005400
Publication number (International publication number)：1997194887
Application date： Jan. 17, 1996
Publication date： Jul. 29, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ?@加熱を行うことなく室温で処理が可能であり、?A薬品・水の使用量が少なくてすみ、?B特有の装置を用いる必要がなく、しかも、?C特有の薬品を用いる必要のない洗浄液および洗浄方法を提供すること。【解決手段】本発明の洗浄液は、純水中に、酸素を20ppb〜100ppb、窒素を2ppb以上含有することを特徴とする。また、OH-を含む電解イオン水中に、酸素を20ppb〜100ppb含有することを特徴とする。本発明の洗浄方法は、純水中に、酸素を20ppb〜100ppb、窒素を2ppb〜15ppm含有する洗浄液に30kHz以上の超音波を付与しつつ被洗浄物の洗浄を行うことを特徴とする。また、OH-を含む電解イオン水中に、酸素を20ppb〜100ppb含有する洗浄液に30kHz以上の超音波を付与しつつ被洗浄物の洗浄を行うことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

純水中に、酸素を20ppb〜100ppb、窒素を2ppb以上含有することを特徴とする洗浄液。

IPC (3)：

C11D 7/00 , B08B 3/10 , H01L 21/304 341

FI (3)：

C11D 7/00 , B08B 3/10 Z , H01L 21/304 341 L

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-232280 Applicant：大見忠弘
純水供給システム及び洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-188146 Applicant：大見忠弘
ウエット処理方法及び処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-169956 Applicant：株式会社フロンテック, オルガノ株式会社, 大見忠弘

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Cited by examiner (5)

洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-232280 Applicant：大見忠弘
純水供給システム及び洗浄方法
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ウエット処理方法及び処理装置
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