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J-GLOBAL ID：200903077769004643

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法

Inventor：
武智 敏

About 武智 敏

, 
羽入 勇

About 羽入 勇


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997277570
Publication number (International publication number)：1999119434
Application date： Oct. 09, 1997
Publication date： Apr. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 高解像性及び高感度に加えてドライエッチング耐性を向上させることのできる低コストの化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。【解決手段】 脂環式炭化水素を含む保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有する第1のモノマー単位と、ラクトン構造を有する第2のモノマー単位と、前記第1のモノマー単位の保護基とは異なる保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有する第3のモノマー単位との共重合により形成されたものであり、その際、前記第2のモノマー単位が10〜35モル%の範囲で含まれる酸感応性3成分共重合体及び放射線露光により酸を発生する酸発生剤を含んでなるように構成する。
Claim (excerpt)：
脂環式炭化水素を含む保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該共重合体をアルカリ可溶性とならしめる構造を有する第1のモノマー単位と、ラクトン構造を有する第2のモノマー単位と、前記第1のモノマー単位の保護基とは異なる保護基により保護されたアルカリ可溶性基を含有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該共重合体をアルカリ可溶性とならしめる構造を有する第3のモノマー単位との共重合により形成されたものであり、その際、前記第2のモノマー単位が、当該共重合体の全量を基準にして10〜35モル%の範囲で含まれる酸感応性3成分共重合体、及び放射線露光により酸を発生する酸発生剤を含んでなることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。
IPC (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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