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J-GLOBAL ID：200903077837207540

光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法

Inventor：
石田 禎則

About 石田 禎則


Applicant, Patent owner：
古河電気工業株式会社

About 古河電気工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000380665
Publication number (International publication number)：2002187733
Application date： Dec. 14, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】 約1300-1600nmの全波長領域で望ましい伝送特性を有する光ファイバ母材の製造方法および光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】 気相軸堆積法で、外径dのコアを囲むように外径Dの第1クラッドを堆積させ、D/d≧4.0である多孔質コアロッドを形成し、前記多孔質コアロッドを脱水して水酸基の濃度を重量比で0.8ppb以下にし、透明化してコアロッドを形成し、前記透明化したコアロッドを加熱して延伸し、前記延伸したコアロッドの周囲に気相堆積法で多孔質第2クラッドを堆積させ、前記多孔質第2クラッドを水酸基の濃度が重量比で50ppm以下になるように脱水し、透明化して光ファイバ母材を製造し、この光ファイバ母材を線引きした後、重水素ガス雰囲気中に所定時間保持する。
Claim (excerpt)：
気相軸堆積法により、コア(外径:d)を囲むように第1クラッド(外径:D)を堆積させ、D/d≧4.0である多孔質コアロッドを形成する工程と、前記多孔質コアロッドを脱水して水酸基の濃度を重量比で0.8ppb以下にし、その後、透明化してコアロッドを形成する工程と、前記透明化したコアロッドを加熱して延伸する工程と、前記延伸したコアロッドの周囲に気相堆積法で多孔質第2クラッドを堆積させる工程と、前記多孔質第2クラッドを水酸基の濃度が重量比で50ppm以下になるように脱水し、その後、透明化する工程とを有することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
IPC (4)：
C03B 37/014 ,  C03B 37/018 ,  C03B 37/10 ,  G02B 6/00 356
FI (5)：
C03B 37/014 Z ,  C03B 37/018 A ,  C03B 37/018 C ,  C03B 37/10 A ,  G02B 6/00 356 A
F-Term (5)：
4G021CA12 ,  4G021EA01 ,  4G021EA03 ,  4G021EB11 ,  4G021EB26
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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