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J-GLOBAL ID：200903079165505809

ガス分離体

Inventor： 川江 孝行 ,  小坂 慎一 ,  中村 真二
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (1)： 渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997167669
Publication number (International publication number)：1998113544
Application date： Jun. 24, 1997
Publication date： May. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 効率的なガス分離が可能で、原料ガスが精製ガス内に漏洩することがなく、ガス分離膜の剥離が極めて起こりにくく、耐久性に優れたガス分離体を提供する。【解決手段】 多孔質基体2と、ガス分離能を有する金属3とを有するガス分離体1である。多孔質基体2が、0.4〜0.9μmの平均細孔径を有する小孔5を有し、ガス分離能を有する金属3が、多孔質基体2の表面に開いている小孔5の内部に充填して閉塞する。

Claim (excerpt)：

多孔質基体と、ガス分離能を有する金属とを有するガス分離体であって、当該多孔質基体が0.4〜0.9μmの平均細孔径を有する小孔を有し、当該ガス分離能を有する金属が当該多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞することを特徴とするガス分離体。

IPC (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  C01B 3/56

FI (3)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 69/10 ,  C01B 3/56 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ガス分離体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-094321   Applicant：日本碍子株式会社
• 水素分離膜およびその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-255004   Applicant：エヌオーケー株式会社, 諸岡成治
• ガス分離体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-073449   Applicant：日本碍子株式会社