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J-GLOBAL ID：200903079293414018
表面処理組成物及びそれを用いた基体の表面処理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998014501
Publication number (International publication number)：1998265798
Application date： Jan. 27, 1998
Publication date： Oct. 06, 1998
Summary：
【要約】【課題】 基体の表面処理を行う際、表面処理組成物から基体表面への金属不純物による汚染を防止し、安定的に極めて清浄な基体表面を達成する事ができる表面処理組成物及び表面処理方法を提供する。【解決手段】 液媒体中に金属付着防止剤として錯化剤を含有する表面処理組成物において、該錯化剤が下記一般式( 1)で表されるエチレンジアミンフェノール誘導体またはその塩である表面処理組成物及びそれを用いた表面処理方法。【化1】(式中X1 、X2 は水酸基を表す。Y1 〜Y8 は、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基などを表し、Y1 〜Y8 のうちの少なくとも一つは水素原子ではない。Z1 〜Z4 は、水素原子、カルボキシル基またはホスホン酸基を表す。R1 〜R4 は、水素原子またはアルキル基などを表す。)
Claim (excerpt)：
液媒体中に金属付着防止剤として錯化剤を含有する表面処理組成物において、該錯化剤が下記一般式(1)で表されるエチレンジアミンフェノール誘導体またはその塩であることを特徴とする表面処理組成物。【化1】(式中X1 、X2 は水酸基を表す。Y1 〜Y8 はそれぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン酸基、カルボニル基、ニトロ基、ニトロソ基、アミノ基、イミノ基、ニトリロ基、ニトリル基、チオシアネート基、ヒドロキシアミノ基、ヒドロキシイミノ基、または、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはアルコキシ基を表し、Y1 〜Y8 のうちの少なくとも一つは水素原子ではない。Z1 〜Z4 はそれぞれ独立に、水素原子、カルボキシル基またはホスホン酸基を表す。R1 〜R4 はそれぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表す。)
IPC (4)：
C11D 7/32
, C09K 3/00 108
, C09K 13/06
, H01L 21/304 341
C11D 7/32
, C09K 3/00 108 C
, C09K 13/06
, H01L 21/304 341 L
Cited by examiner (5)
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