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J-GLOBAL ID:200903079475145926
プラズマ状態検出方法及びその装置、プラズマ制御方法及びその装置並びにエッチング終点検出方法及びその装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井上 一 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995053672
Publication number (International publication number):1996227875
Application date: Feb. 17, 1995
Publication date: Sep. 03, 1996
Summary:
【要約】【目的】 プラズマ放電異常を早期に発見し、プラズマ状態を一定に維持するためのフィードバック制御が可能な、特に大気圧プラズマにて好適に実施できるプラズマ制御方法及び装置を提供すること。【構成】 図1(A)に示すプラズマ安定時にあっては、第6次、第8時高調波等の特定高調波のスペクトルが検出されない。プラズマ異常にあっては、図1(B)に示すように、この特定高調波のスペクトルが検出される。従って、プラズマ生成中に特定高調波のスペクトルを監視し、この値が所定値以上となったときに、プラズマ異常と判定できる。また、図1(A)と比較して供給されるガス濃度のみが変更された図1(C)に示すように、特定高調波例えば第5次高調波のスペクトルが、ガス濃度依存性を有する。この特定高調波スペクトルとガス濃度との相関を予め記憶しておけば、特定高調波スペクトルのみを検出することで、プラズマ生成パラメータの一つであるガス濃度をフィードバック制御できる。
Claim (excerpt):
高周波電源からの高周波電圧を一対の電極に印加することで前記電極間に生成されるプラズマ放電の状態を検出するにあたり、プラズマ発生時に生ずる前記高周波電源の基本周波数に対する高調波のうち、プラズマ放電の安定時には他の高調波と比べて低レベルとなる特定高調波のスペクトルを監視し、前記特定高調波スペクトルが基準値以上となった時に、プラズマ放電異常であると判定することを特徴とするプラズマ状態検出方法。
IPC (4):
H01L 21/3065
, C30B 25/16
, H01L 21/31
, H05H 1/46
FI (6):
H01L 21/302 B
, C30B 25/16
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 A
, H01L 21/302 H
, H01L 21/302 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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平行平板型プラズマ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-200198
Applicant:住友金属工業株式会社
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プラズマ処理装置におけるプラズマ制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-012226
Applicant:株式会社神戸製鋼所
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特開平4-212414
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ドライエツチング方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-318330
Applicant:国際電気株式会社
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特開昭59-189632
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特開平4-212414
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特開昭59-189632
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特開平4-212414
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特開昭59-189632
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