レジスト材料及びレジストパターンの形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996320105
Publication number (International publication number)：1998161313
Application date： Nov. 29, 1996
Publication date： Jun. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ArFリソグラフィに要求される高感度(5mJ/cm2 以下)を有しかつ安定したパターニング特性を得ることのできる化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。【解決手段】脂環式炭化水素基を含有しかつその基の炭素原子に-CH2-R(式中、Rは、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基である)が結合している部分を含む保護されたアルカリ可溶性基を有し、そしてそのアルカリ可溶性基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を含む酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを含んでなるように、構成する。

Claim (excerpt)：

次式(I)により表される脂環式炭化水素基含有部分:【化1】(上式において、R1 は、メチル基、エチル基、プロピル基又はイソプロピル基を表し、そしてZは、記載の炭素原子とともに脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数個の原子を表す)で保護されたアルカリ可溶性基を有しかつ前記アルカリ可溶性基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を含む酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを含んでなることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/033 , G03F 7/38 511 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/033 , G03F 7/38 511 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-261054 Applicant：日本ゼオン株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-084729 Applicant：日本ゼオン株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-301558 Applicant：日本ゼオン株式会社

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Cited by examiner (7)

レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-261054 Applicant：日本ゼオン株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-084729 Applicant：日本ゼオン株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-301558 Applicant：日本ゼオン株式会社

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