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J-GLOBAL ID：200903079924736454

金属含量の低減されたポリ(メタ)アクリレート類の製造方法

Inventor： 落合 鋼志郎 ,  釜淵 明
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000286896
Publication number (International publication number)：2002097219
Application date： Sep. 21, 2000
Publication date： Apr. 02, 2002
Summary：

【要約】【課題】 金属含量の低減されたポリ(メタ)アクリレート類を提供する。【解決手段】 ポリ(メタ)アクリレート類と有機溶媒からなる混合物を、酸性の水溶液と接触させることを特徴とする金属含量の低減されたポリ(メタ)アクリレート類の製造方法。

Claim (excerpt)：

ポリ(メタ)アクリレート類と有機溶媒からなる混合物を、酸性の水溶液と接触させることを特徴とする金属含量の低減されたポリ(メタ)アクリレート類の製造方法。

IPC (2)：

C08F 6/00 ,  C08F 20/10

FI (2)：

C08F 6/00 ,  C08F 20/10

F-Term (17)：

4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA11P ,  4J100BA20P ,  4J100BC02P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100GC35 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• アクリル酸エステル重合体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-087931   Applicant：株式会社クラレ
• 金属汚染物の除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-096158   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 金属イオン含有量の低いポリビニルフェノール類の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-344341   Applicant：住友化学工業株式会社
• 特開昭63-126502
  
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-250050   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 電子部品用樹脂中の不純物除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-193847   Applicant：株式会社東芝
• レジスト構成材料の精製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-033974   Applicant：富士通株式会社