感放射線性樹脂組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：福沢俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997252601
Publication number (International publication number)：1999084662
Application date： Sep. 03, 1997
Publication date： Mar. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】解像度およびパターン形状が優れ、かつ膜面荒れも小さく、さらに光近接効果が小さく、ライン・アンド・スペースパターンと孤立パターンの双方について、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)p-ヒドロキシスチレンに代表される繰返し単位、p-メトキシメトキシスチレンに代表される繰返し単位およびp-1-エトキシプロポキシスチレンに代表される繰返し単位を含む共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)下記式(1)で表される繰返し単位、下記式(2)で表される繰返し単位および下記式(3)で表される繰返し単位を含む共重合体、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子またはメチル基を示す。)【化2】(式中、R2 およびR3 は、相互に同一でも異なってもよく、水素原子またはメチル基を示し、R4 は水素原子、メチル基またはエチル基を示す。)【化3】(式中、R5 およびR6 は、相互に同一でも異なってもよく、水素原子またはメチル基を示し、R7 は炭素数2〜4のアルキル基、アルコキシアルキル基(但し、アルコキシ基部分の炭素数は1〜4であり、アルキル基部分の炭素数は1〜3である。)または炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基を示し、R8 は水素原子、メチル基またはエチル基を示す。)

IPC (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-019001 Applicant：富士写真フイルム株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-266776 Applicant：信越化学工業株式会社
酸に不安定な保護基を有するフェノール樹脂
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-006982 Applicant：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド

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