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J-GLOBAL ID：200903080575830489

III族窒化物半導体素子

Inventor：
宇田川 隆

About 宇田川 隆


Applicant, Patent owner：
昭和電工株式会社

About 昭和電工株式会社


Agent (1)： 矢口 平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999141520
Publication number (International publication number)：2000332294
Application date： May. 21, 1999
Publication date： Nov. 30, 2000
Summary：
【要約】【課題】連続性のある良質のIII族窒化物半導体結晶層をSi単結晶基板上に安定して形成するために、緩衝層が備えるべき構造を明らかにする。【解決手段】珪素(Si)単結晶からなる基板上に、緩衝層を介して、III族窒化物半導体結晶からなる積層構造を形成する際に、緩衝層を、基板上に接して形成された砒素(As)またはリン(P)の少なくとも一方と硼素(B)とを含むIII-V族化合物半導体からなる第1の緩衝層と、第1の緩衝層上に形成されたIII族窒化物半導体からなる第2の緩衝層とから構成する。
Claim (excerpt)：
珪素(Si)単結晶からなる基板と、該基板上に形成された緩衝層と、該緩衝層上に形成されたIII族窒化物半導体結晶からなる積層構造とを具備するIII族窒化物半導体素子において、前記緩衝層が、前記基板上に接して形成された砒素(As)またはリン(P)の少なくとも一方と硼素(B)とを含むIII-V族化合物半導体からなる第1の緩衝層と、該第1の緩衝層上に形成されたIII族窒化物半導体からなる第2の緩衝層とを有することを特徴とするIII族窒化物半導体素子。
IPC (3)：
H01L 33/00 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/205
FI (3)：
H01L 33/00 C ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/205
F-Term (32)：
5F041AA40 ,  5F041CA23 ,  5F041CA33 ,  5F041CA34 ,  5F041CA40 ,  5F041CA57 ,  5F041CA64 ,  5F041CA65 ,  5F045AA04 ,  5F045AB09 ,  5F045AB14 ,  5F045AB17 ,  5F045AB18 ,  5F045AC01 ,  5F045AC03 ,  5F045AC12 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AD12 ,  5F045AD13 ,  5F045AD14 ,  5F045AF03 ,  5F045BB12 ,  5F045CA10 ,  5F045CB02 ,  5F045DA53 ,  5F045DA61 ,  5F052KA02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)

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