高分子ゲル構造体及びその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007219791
Publication number (International publication number)：2009051087
Application date： Aug. 27, 2007
Publication date： Mar. 12, 2009
Summary：

【課題】良好な機械的強度を有するとともに、摩擦性を低減可能な高分子ゲル構造体を提供する。【解決手段】凹凸のついた少なくとも1つの主表面を有する、第一のポリマー成分を含む第一の層と、前記第一の層の前記主表面上に形成された、第二のポリマー成分を含む第二の層とを有し、前記第二のポリマー成分は、前記第一の層中に侵入し、前記第一のポリマー成分との間で相互侵入高分子網目構造又はセミ相互侵入高分子網目構造を形成している、高分子ゲル構造体。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

凹凸のついた少なくとも1つの主表面を有する、第一のポリマー成分を含む第一の層と、前記第一の層の前記主表面上に形成された、第二のポリマー成分を含む第二の層とを有し、前記第二のポリマー成分は、前記第一の層中に侵入し、前記第一のポリマー成分との間で相互侵入高分子網目構造又はセミ相互侵入高分子網目構造を形成している、高分子ゲル構造体。

IPC (6)：

B32B 27/16 , C08J 5/16 , C08F 2/00 , A61L 27/00 , A61L 29/00 , A61F 2/16

FI (7)：

B32B27/16 101 , C08J5/16 , C08F2/00 C , A61L27/00 D , A61L29/00 C , A61L29/00 J , A61F2/16

F-Term (80)：

4C081AB22 , 4C081AB23 , 4C081AC08 , 4C081BA03 , 4C081BB05 , 4C081CA081 , 4C081CC04 , 4C081DA02 , 4C081DA12 , 4C081DC02 , 4C081EA02 , 4C097AA03 , 4C097AA25 , 4C097BB01 , 4C097CC02 , 4C097CC03 , 4C097DD01 , 4C097EE03 , 4C097FF03 , 4C097MM04 , 4C167AA01 , 4C167BB05 , 4C167BB06 , 4C167BB12 , 4C167BB13 , 4C167BB26 , 4C167CC07 , 4C167CC08 , 4C167FF01 , 4C167GG02 , 4C167GG41 , 4C167GG45 , 4C167HH14 , 4F071AA32X , 4F071AA33X , 4F071AA35X , 4F071AE02 , 4F071AF04 , 4F071AF13 , 4F071AF28 , 4F071AG02 , 4F071AG05 , 4F071AG15 , 4F071AH19 , 4F071EA01 , 4F071EA05 , 4F071EA06 , 4F100AK01A , 4F100AK01B , 4F100AK02A , 4F100AK02B , 4F100AK07 , 4F100AK25 , 4F100AK26 , 4F100AK42 , 4F100AL01A , 4F100AL01B , 4F100BA02 , 4F100CA02 , 4F100CA30 , 4F100DA11 , 4F100DD01B , 4F100EH46 , 4F100EJ05A , 4F100EJ05B , 4F100EJ54 , 4F100EJ82 , 4F100GB66 , 4F100JB05A , 4F100JB05B , 4F100JB06A , 4F100JB06B , 4F100JK16 , 4F100JM10B , 4J011CA01 , 4J011CA08 , 4J011CB00 , 4J011CC02 , 4J011CC06 , 4J011CC10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

(セミ)相互侵入網目構造ハイドロゲル及びその製造方法
Gazette classification：再公表公報 Application number：JP2003004556 Applicant：北海道ティー・エル・オー株式会社
直鎖状高分子を有する低摩擦ハイドロゲルおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-013617 Applicant：北海道ティー・エル・オー株式会社
高分子ゲル潤滑方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-373894 Applicant：科学技術振興事業団

Cited by examiner (4)

特開平4-293012
高分子ゲル潤滑方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-373894 Applicant：科学技術振興事業団
改善された研磨パッドの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-020194 Applicant：東レ株式会社

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