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J-GLOBAL ID:200903080939615058
フロック形成装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
綿貫 達雄
, 名嶋 明郎
, 山本 文夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004027748
Publication number (International publication number):2004290957
Application date: Feb. 04, 2004
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】凝集剤注入水のフロックを迅速に形成させ、その成長を加速することができる。 【解決手段】薬品混和槽2には、処理対象である原水aが導入されるとともに、公知の硫酸アルミニウムやポリ塩化アルミニウムなどの凝集剤bが注入され、撹拌、混合される凝集剤混合部21と、次いで凝集剤を混合した凝集剤注入水が通過するフロック成長部22が設けられていて、凝集剤注入水はフロック処理水dとして排出されるのであるが、このフロック成長部22には、凝集剤注入水中のフロックの成長を促進するための複数の通水貫通孔31を透設した通水部材3を配置した。 【選択図】 図1
Claim (excerpt):
原水に凝集剤を注入し混和した凝集剤注入水を固液分離するようにした水処理システムにおいて、凝集剤注入水の流路に、その凝集剤注入水がフロックの濃縮を伴いながら通過する複数の通水貫通孔を透設した通水部材を配置したことを特徴とするフロック形成装置。
IPC (4):
B01D21/08
, B01D21/00
, B01D39/20
, C02F1/52
FI (4):
B01D21/08 E
, B01D21/00 C
, B01D39/20 D
, C02F1/52
F-Term (15):
4D015BA21
, 4D015BA29
, 4D015BB05
, 4D015DA04
, 4D015DA06
, 4D015EA01
, 4D015EA31
, 4D015EA32
, 4D015EA35
, 4D015EA37
, 4D019AA03
, 4D019BA05
, 4D019BB06
, 4D019CA01
, 4D019CB04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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特開昭51-074465
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膜ろ過における凝集剤の注入制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-144871
Applicant:日本碍子株式会社
-
クロスフロー濾過方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-339824
Applicant:日本碍子株式会社, 富士ゼロツクス株式会社
-
特開昭51-105671
-
汚泥の膜濃縮方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-077044
Applicant:日本碍子株式会社
-
凝集沈殿分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-247821
Applicant:東海プラントエンジニアリング株式会社
-
膜ろ過装置の逆洗方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-242543
Applicant:日本碍子株式会社
-
有機性廃水の処理装置および処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-158878
Applicant:渡辺義公, 小澤源三, 東レ株式会社
-
凝集濾過処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-041928
Applicant:株式会社クボタ
-
凝集濾過処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-059254
Applicant:株式会社クボタ
-
汚水の凝集沈澱処理装置およびその洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-053902
Applicant:日本鋼管株式会社
-
特開平4-338202
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固液分離槽の傾斜板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-144570
Applicant:タキロン株式会社
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