基板処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：金本哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999350135
Publication number (International publication number)：2001168009
Application date： Dec. 09, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：

【要約】【課題】熱処理ユニットからの熱的影響を抑えるとともに,液処理ユニットの雰囲気の管理,維持を容易にする。【解決手段】塗布現像処理装置1において,仕切り板13,14によって区画された領域に熱処理部10,12と液処理部11を分けて配置する。液処理部11には,厳格に温湿度が調整されたエアを供給し,熱処理部10,12には,それより低レベルに制御されたエアを供給する。

Claim (excerpt)：

基板に対して所定の液処理と熱処理とを行う装置であって,基板に対して所定の液処理を行う液処理ユニットを有する液処理部と,基板に対して所定の熱処理を行う熱処理ユニットを有する熱処理部とが,装置内において区画された領域に分けて配置され,これら液処理部の雰囲気と熱処理部の雰囲気とが個別に制御されるように構成されたことを特徴とする,基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (4)：

H01L 21/68 A , H01L 21/30 567 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 C

F-Term (29)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA17 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA43 , 5F031GA48 , 5F031HA37 , 5F031MA02 , 5F031MA06 , 5F031MA23 , 5F031MA26 , 5F031NA02 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046JA07 , 5F046JA08 , 5F046JA15 , 5F046JA22 , 5F046JA24 , 5F046KA04 , 5F046KA07 , 5F046LA02 , 5F046LA04 , 5F046LA07 , 5F046LA13 , 5F046LA18

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-013926 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-142738 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-147188 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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