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J-GLOBAL ID:200903081434200054

処理装置,処理方法及び蓄熱器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  和田 憲治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005289243
Publication number (International publication number):2007101021
Application date: Sep. 30, 2005
Publication date: Apr. 19, 2007
Summary:
【課題】吸熱反応が生じても,処理炉内を効率的に加熱できる処理装置及び処理方法を提供する。さらに,かかる処理装置及び処理方法において好適に用いられる蓄熱器を提供する。【解決手段】被処理体を吸熱反応によって処理する処理装置1において,被処理体が投入される処理炉2と,処理炉2内に処理ガスを供給する供給路3と,処理炉2内から排ガスを排出させる排出路4を備えた。また,処理ガスを加熱するヒーター11を備えた。さらに,排出路4には,排ガスの熱を蓄熱する蓄熱器15と,蓄熱器15を通過した排ガスと供給路3を通過する処理ガスとの間で熱交換を行わせる熱交換器10とを設けた。【選択図】図1
Claim (excerpt):
被処理体を吸熱反応によって処理する処理装置であって, 被処理体が投入される処理炉と,前記処理炉内に処理ガスを供給する供給路と,前記処理炉内から排ガスを排出させる排出路と,前記処理ガスを加熱するヒーターとが備えられ, 前記排出路に,前記排ガスの熱を蓄熱する蓄熱器と,前記蓄熱器を通過した排ガスと前記処理ガスとの間で熱交換を行わせる熱交換器とが設けられていることを特徴とする,処理装置。
IPC (4):
F27D 17/00 ,  F28D 20/00 ,  C21B 13/00 ,  C22B 5/12
FI (4):
F27D17/00 101A ,  F28D20/00 A ,  C21B13/00 ,  C22B5/12
F-Term (15):
4K001AA10 ,  4K001BA05 ,  4K001GA01 ,  4K001GA19 ,  4K001GB09 ,  4K001GB10 ,  4K001HA09 ,  4K012DA04 ,  4K012DA05 ,  4K056AA01 ,  4K056BA03 ,  4K056CA07 ,  4K056DA02 ,  4K056DA27 ,  4K056DA36
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (6)
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