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J-GLOBAL ID：200903081807588414

強誘電体膜の損傷層を除去するための清浄液及びこれを利用した清浄方法

Inventor： 李 光 旭 ,  朴 壬 洙 ,  李 根 澤 ,  權 永 ▲びん▼ ,  河 商 ▲録▼
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001076596
Publication number (International publication number)：2002025967
Application date： Mar. 16, 2001
Publication date： Jan. 25, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 強誘電体膜の損傷層を除去するための清浄液及びこれを利用した清浄方法を提供する。【解決手段】 フッ化物、カルボキシル基を含む有機酸、アルカリ性pH調節剤及び水を含む洗浄液を用いる。清浄液のpH範囲は4.5ないし6.5である。これにより、長時間一定の清浄力を維持でき、強誘電体膜の損傷層を選択的に除去することができる。

Claim (excerpt)：

フッ化物と、カルボキシル基を含む有機酸と、アルカリ性pH調節剤と、水とを含む強誘電体膜の損傷層を選択的に除去するための清浄液。

IPC (5)：

H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 641 ,  H01G 4/33 ,  H01G 13/00 391 ,  H01L 27/105

FI (5)：

H01L 21/304 647 A ,  H01L 21/304 641 ,  H01G 13/00 391 Z ,  H01G 4/06 102 ,  H01L 27/10 444 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• エッチング液を用いたPZT系薄膜の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-193091   Applicant：三星電子株式会社
• 弾性表面波素子および弾性表面波素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-328362   Applicant：株式会社東芝
• 誘電体素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-060515   Applicant：松下電器産業株式会社