位置計測システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：田中清 , 村山みどり
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006237003
Publication number (International publication number)：2008058204
Application date： Aug. 31, 2006
Publication date： Mar. 13, 2008
Summary：

【課題】対象物の位置や方向を簡易かつ高精度に測定することができる位置計測システムを提供する。【解決手段】位置計測システムは、互いの位置関係が判明している4個のLED光源1〜4と、各光源からの光を透過して球面収差により光リング像11を形成する光学レンズ系12と、光学レンズ系12により形成された光リング像11を検出するイメージセンサ13と、イメージセンサ13により検出された光リング像11の検出情報および各光源の位置関係に基づいて各光源の位置を計測する演算装置14とを備える。LED光源1〜4は、同一平面上に存在し、矩形部材としてのカード5の4つの頂点位置にそれぞれ配置される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

互いの位置関係が判明している4個以上の光源と、前記各光源からの光を透過して球面収差により光リング像を形成する光学レンズ系と、前記光学レンズ系により形成された光リング像を検出する撮像素子と、前記撮像素子により検出された光リング像の検出情報および前記各光源の位置関係に基づいて前記各光源の位置を計測する演算装置とを備えたことを特徴とする位置計測システム。

IPC (1)：

G01B 11/00

FI (1)：

G01B11/00 H

F-Term (13)：

2F065AA04 , 2F065AA06 , 2F065AA19 , 2F065BB29 , 2F065EE00 , 2F065FF23 , 2F065GG07 , 2F065GG13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL04 , 2F065QQ00 , 2F065QQ28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

位置計測システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-002073 Applicant：富士ゼロックス株式会社

Cited by examiner (8)

位置計測システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-159250 Applicant：富士ゼロックス株式会社
3次元形状計測方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-330582 Applicant：有限会社テクノドリーム二十一
マーク、マーク検出装置およびその方法と画面位置指示装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-145041 Applicant：株式会社タムラ製作所

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