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J-GLOBAL ID：200903072208515043

光源装置及びそれを用いた露光装置

Inventor：
溝口 計

About 溝口 計


Applicant, Patent owner：
ギガフォトン株式会社

About ギガフォトン株式会社


Agent (1)： 宇都宮 正明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001285025
Publication number (International publication number)：2003092199
Application date： Sep. 19, 2001
Publication date： Mar. 28, 2003
Summary：
【要約】【課題】 エテンデュが小さく、高出力を取り出すことができ、デブリによる損傷の少ない光源装置を提供する【解決手段】 この光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、低次の横モードを有する発振段レーザ21と発振段レーザにより発生した低次の横モードのレーザビームを増幅する増幅段レーザ22〜24とを含み、増幅されたレーザビームをターゲットに照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系とを具備する。
Claim (excerpt)：
ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、前記ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、低次の横モードを有する発振段レーザと、前記発振段レーザにより発生した低次の横モードのレーザビームを増幅する少なくとも1つの増幅段レーザとを含み、増幅されたレーザビームを前記ターゲットに照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、前記プラズマから放出される極端紫外光を集光して出射する集光光学系と、を具備する光源装置。
IPC (3)：
H05H 1/24 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/027
FI (3)：
H05H 1/24 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 S
F-Term (6)：
2H097CA15 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
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Cited by examiner (13)
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