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J-GLOBAL ID:200903082969863067
光走査装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
三反崎 泰司
, 藤島 洋一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002165645
Publication number (International publication number):2004012776
Application date: Jun. 06, 2002
Publication date: Jan. 15, 2004
Summary:
【課題】シリンドリカルミラーの位置ずれを防止し、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれを防止可能な光走査装置を提供する。【解決手段】光学ベース1の下面側に、この光学ベース1と一体をなす支持リブ1Pを設け、この支持リブ1Pによりシリンドリカルミラー90Cを下方から支持する。変形しにくい支持リブ1Pによりシリンドリカルミラー90Cの重量が支えられるため、変形しやすい部材によりシリンドリカルミラー90Cが支持されている場合とは異なり、実装後において、シリンドリカルミラー90Cの重量により支持リブ1Pが変形しにくくなる。シリンドリカルミラー90Cの位置ずれが防止されるため、シリンドリカルカルミラー90Cにより反射されたレーザ光が被走査面上の正しい位置に到達することとなり、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれが防止される。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
被走査面を走査する光ビームを出射する光源と、前記光源から出射された光ビームを偏向させる光偏向器と、前記光偏向器により偏向された光ビームを前記被走査面に向けて反射させる反射面を有する反射ミラーと、少なくとも前記反射ミラーを支持する基体とを備え、前記反射ミラーが前記基体の下面側に配設された光走査装置であって、
前記基体の下面側に、前記反射ミラーを下方から支持する支持部が前記基体と一体に設けられている
ことを特徴とする光走査装置。
IPC (5):
G02B26/10
, B41J2/44
, G02B7/182
, H04N1/036
, H04N1/113
FI (7):
G02B26/10 F
, G02B26/10 B
, G02B26/10 101
, H04N1/036 Z
, G02B7/18 Z
, B41J3/00 D
, H04N1/04 104A
F-Term (29):
2C362BA87
, 2C362BA90
, 2H043CA03
, 2H043CA08
, 2H043CE00
, 2H045BA22
, 2H045BA34
, 2H045DA02
, 5C051AA02
, 5C051CA07
, 5C051DB02
, 5C051DB22
, 5C051DB24
, 5C051DC04
, 5C051DC07
, 5C051DE21
, 5C051EA01
, 5C051FA01
, 5C072AA03
, 5C072BA13
, 5C072DA04
, 5C072DA21
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA09
, 5C072HA13
, 5C072QA14
, 5C072XA01
, 5C072XA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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光学走査装置及び画像形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-293918
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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光学走査装置及び光学走査装置の取付構造
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-014255
Applicant:富士ゼロックス株式会社
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特開平4-264418
-
特開平4-264416
-
光ビーム走査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-269952
Applicant:株式会社リコー
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光学部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-280024
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-264418
-
特開平4-264416
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