下水処理場水質制御装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002000810
Publication number (International publication number)：2003200190
Application date： Jan. 07, 2002
Publication date： Jul. 15, 2003
Summary：

【要約】【課題】下水処理場からの処理水の窒素、リンの水質を常に良好に維持すること。【解決手段】下水処理場に流入する流入水の窒素成分と有機物成分とのC/N比を用いて、下水処理場における循環流量、返送流量、曝気風量、炭素源注入量、余剰汚泥流量、返流水流量、初沈バイパス弁のうちの少なくとも一つを制御する。

Claim (excerpt)：

曝気槽を備えた下水処理場から放流される処理水の水質を制御する下水処理場水質制御装置において、前記下水処理場に流入する流入水の窒素成分濃度を計測する窒素成分濃度計測手段と、前記下水処理場に流入する流入水の有機物成分濃度を計測する有機物成分濃度計測手段と、前記窒素成分濃度計測手段および有機物成分濃度計測手段により計測された窒素成分濃度および有機物成分濃度に基づいて、前記下水処理場に流入する流入水の窒素成分と有機物成分との比(C/N比)を演算するC/N比演算手段と、基準となる基準C/N比を設定する基準C/N比設定手段と、前記基準C/N比設定手段により設定された基準C/N比と前記C/N比演算手段により演算されたC/N比との差分に基づいて、前記下水処理場における循環流量、返送流量、曝気風量、炭素源注入量、余剰汚泥流量、返流水流量、初沈バイパス弁のうちの少なくとも一つを制御する操作量を出力する制御手段と、を備えて成ることを特徴とする下水処理場水質制御装置。

IPC (5)：

C02F 3/12 ZAB , C02F 3/12 , C02F 3/30 , C02F 3/34 101 , G05D 21/00

FI (7)：

C02F 3/12 ZAB H , C02F 3/12 J , C02F 3/12 K , C02F 3/12 P , C02F 3/30 C , C02F 3/34 101 C , G05D 21/00 A

F-Term (28)：

4D028AA08 , 4D028CA00 , 4D028CA09 , 4D028CA12 , 4D028CB03 , 4D028CC01 , 4D028CC02 , 4D028CE02 , 4D040BB05 , 4D040BB07 , 4D040BB25 , 4D040BB57 , 4D040BB65 , 4D040BB72 , 4D040BB91 , 4D040BB93 , 5H309AA07 , 5H309BB20 , 5H309CC05 , 5H309DD08 , 5H309DD13 , 5H309DD14 , 5H309DD37 , 5H309DD38 , 5H309EE03 , 5H309GG02 , 5H309HH12 , 5H309JJ06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

硝化脱窒装置におけるメタノール供給量および曝気量の調整方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-109259 Applicant：日立造船株式会社
生物学的水処理装置の制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-143729 Applicant：三菱電機株式会社
下水処理プロセスシミュレータシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-278704 Applicant：株式会社東芝

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