下水処理場の水質制御装置

Inventor： , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000066911
Publication number (International publication number)：2001252691
Application date： Mar. 10, 2000
Publication date： Sep. 18, 2001
Summary：

【要約】【課題】非連続的かつ低精度のセンサを用いることなく、下水処理場の各種水質項目を常に良好に維持することができる下水処理場の水質制御装置を提供する。【解決手段】流量計80〜84、UV計85およびDO計86等の連続的かつ高精度の計測を行うことが可能なセンサにより下水処理場50の所定の状態量(水量や水質等)を計測する。そして、その計測値に基づいて、シミュレータセンサ90により、ASM2等の水質シミュレーションモデルを用いて、所定の測定周期内で計測することが困難な水質項目の値(処理水NH4値)を求める。その後、DO制御目標値演算部94、DO制御部95および風量制御部96により、シミュレータセンサ90により出力された出力値(処理水NH4値)に基づいて、DO値が一定となるよう開閉弁58の弁開度を制御する。

Claim (excerpt)：

下水処理場の各種水質項目を制御する制御機器を備えた下水処理場の水質制御装置において、下水処理場の状態量のうち所定の測定周期内で計測することが可能な状態量の計測値を入力として、水質シミュレーションモデルを用いて、下水処理場の水質項目の値を出力するシミュレータセンサと、前記シミュレータセンサにより出力された出力値を入力として水質項目の制御目標値を演算する制御目標値演算部と、前記制御目標値演算部により演算された制御目標値に基づいて前記制御機器の運転を制御する制御部とを備えたことを特徴とする下水処理場の水質制御装置。

IPC (2)：

C02F 3/34 101 , C02F 3/12 ZAB

FI (2)：

C02F 3/34 101 C , C02F 3/12 ZAB H

F-Term (24)：

4D028AC01 , 4D028AC03 , 4D028BC18 , 4D028BD11 , 4D028BD16 , 4D028CA00 , 4D028CA05 , 4D028CA07 , 4D028CA09 , 4D028CA11 , 4D028CA12 , 4D028CB03 , 4D028CC00 , 4D028CC05 , 4D028CC07 , 4D028CD01 , 4D028CD05 , 4D028CE03 , 4D040BB05 , 4D040BB07 , 4D040BB57 , 4D040BB65 , 4D040BB91 , 4D040BB92

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

下水処理場、その計測装置およびその支援装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-215351 Applicant：株式会社東芝
硝化反応シミュレーション方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-204868 Applicant：日立プラント建設株式会社
特開昭63-209796

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

下水処理場オンラインデータを用いた動的水質シミュレーション

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