エアレータ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：小栗昌平 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000080576
Publication number (International publication number)：2001259395
Application date： Mar. 22, 2000
Publication date： Sep. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】少ない消費エネルギで被処理液中に気泡サイズが数十μm程度の均一なサイズの気泡を継続的に大量供給することができるエアレータを提供する。【解決手段】底部3aに吐出口4が開口して被処理液1中に浸漬される吐出流形成槽3と、吐出流形成槽3の周壁に沿って槽内を旋回する旋回流となる噴射方向で吐出流形成槽3に液体Wを供給する液体供給手段7と、吐出流形成槽3内で吐出口4に対峙して設けた気体導入口8aから旋回流によって空気Gを自然吸引させ吐出流形成槽3に空気を供給する気体供給手段9とを備え、吐出流形成槽3に液体Wを供給して吐出流形成槽3内で気液二相流を形成し、この気液二相流を吐出口4から被処理液1中に拡散噴射する。

Claim (excerpt)：

液体中に気相を取り込んで形成した気液二相流を被処理液中に吐出することで該被処理液に微細気泡を供給するエアレータにおいて、底部に吐出口が開口して被処理液中に浸漬される吐出流形成槽と、該吐出流形成槽の周壁に沿って槽内を旋回する旋回流となる噴射方向で前記吐出流形成槽に液体を加圧供給する液体供給手段と、前記吐出流形成槽内で前記吐出口に対峙して設けた気体導入口から前記旋回流によって気体を自然吸引させることで前記吐出流形成槽に気体を供給する気体供給手段とを備え、前記吐出流形成槽に液体を加圧供給して形成した気液二相流を前記吐出口から被処理液中に拡散噴射することを特徴とするエアレータ。

IPC (3)：

B01F 5/00 , B01F 3/04 , C02F 3/20

FI (3)：

B01F 5/00 G , B01F 3/04 C , C02F 3/20 Z

F-Term (6)：

4D029AA09 , 4D029AB01 , 4D029BB11 , 4G035AB16 , 4G035AC44 , 4G035AE13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

旋回式微細気泡発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-378496 Applicant：大成博文
エアレータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-032263 Applicant：日鉄鉱業株式会社
特開平4-126542

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