感光性組成物及びパターンの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小田島平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993119234
Publication number (International publication number)：1994308733
Application date： Apr. 23, 1993
Publication date： Nov. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フオトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基又はカルボキシル基とヒドロキシフエニル基を含有する重合体、B)一分子中に1個のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法。

Claim (excerpt)：

A)カルボキシル基又はカルボキシル基とヒドロキシフエニル基を含有する重合体、B)一分子中に1個のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (7)：

G03F 7/039 501 , C09D 5/44 PRG , C09D 5/44 PRL , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , H01L 21/027 , H05K 3/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平1-106038
特開昭55-012995
特開昭48-089003

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