イオン源およびイオン引き出し電極

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：秋山敦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000017696
Publication number (International publication number)：2001210245
Application date： Jan. 26, 2000
Publication date： Aug. 03, 2001
Summary：

【要約】【課題】本発明の目的は,装置全体を大型にしなくても大直径イオンビームを得ることができる高周波型のイオン源およびイオン引き出し電極を提供することにある。【解決手段】本発明は、発生させたプラズマからイオンを引き出してイオンビームを発生させるイオン源Sである。開口6を有する放電室1内に配置されたプラズマ発生手段3と、開口6を塞ぐ第1のイオン引き出し電極7と、第2のイオン引き出し電極8と、第1のイオン引き出し電極7と第2のイオン引き出し電極8との間に電位差を付与する手段28,29と、を備える。各イオン引き出し電極7,8は、複数のイオン引き出し孔22を備えて放電室1の外側に向かって凸となる曲面領域20を備えた板状体からなり、第1のイオン引き出し電極7と第2のイオン引き出し電極8との間には、所定の間隔を置くための絶縁体からなるスペーサ9が配設される。

Claim (excerpt)：

発生させたプラズマからイオンを引き出してイオンビームを発生させるイオン源であって、開口を有する放電室内に配置されたプラズマ発生手段と、前記放電室の前記開口を塞ぐ第1のイオン引き出し電極と、該第1のイオン引き出し電極と所定の間隔を置いて配置された第2のイオン引き出し電極と、前記第1のイオン引き出し電極と前記第2のイオン引き出し電極との間に電位差を付与する手段と、を備え、前記各イオン引き出し電極は、該イオン引き出し電極を貫通する複数のイオン引き出し孔を備えて前記放電室の外側に向かって凸となる曲面領域を備えた板状体からなり、前記第1のイオン引き出し電極と前記第2のイオン引き出し電極との間には、前記所定の間隔を置くための絶縁体からなるスペーサが配設されたことを特徴とするイオン源。

IPC (3)：

H01J 27/02 , H01J 27/18 , H01J 37/08

FI (3)：

H01J 27/02 , H01J 27/18 , H01J 37/08

F-Term (3)：

5C030DD01 , 5C030DE04 , 5C030DE07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

イオン注入装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-128259 Applicant：株式会社日立製作所
特開昭55-122342
イオン源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-037412 Applicant：日新電機株式会社

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