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J-GLOBAL ID：200903083710531518

真空チャック

Inventor：
岩井 明仁

About 岩井 明仁

, 
佐藤 計二

About 佐藤 計二


Applicant, Patent owner：
日立化成工業株式会社

About 日立化成工業株式会社


Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998185489
Publication number (International publication number)：2000021960
Application date： Jun. 30, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高温での使用中に温度の低いシリコンウエハ、ガラス基板等を接触、吸着させた場合においても熱衝撃で破損し難い真空チャックを提供する。【解決手段】 表面に形成した真空吸着溝1と内部を貫通して一端が真空吸着溝1に通じた真空吸引穴2を有する真空チャックにおいて、真空吸着溝1の真空吸引穴2入口を面取り加工してなる真空チャック。
Claim (excerpt)：
表面に形成した真空吸着溝と内部を貫通して一端が真空吸着溝に通じた真空吸引穴を有する真空チャックにおいて、真空吸着溝の真空吸引穴入口を面取り加工してなる真空チャック。
IPC (2)：
H01L 21/68 ,  B25J 15/06
FI (2)：
H01L 21/68 P ,  B25J 15/06 N
F-Term (10)：
3F061AA01 ,  3F061CA01 ,  3F061CB00 ,  3F061CC01 ,  3F061DB04 ,  3F061DB06 ,  5F031FF01 ,  5F031KK07 ,  5F031MM01 ,  5F031MM10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 特開平2-065253
  • 物品保持装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-193855   Applicant：京セラ株式会社
  • 改良型化学気相堆積チャンバ
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願平7-522411   Applicant：アプライドマテリアルズ,インコーポレイテッド
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